UV-F3B現(xiàn)場足跡采集系統(tǒng)
UV-F總結現(xiàn)實辦案現(xiàn)場中集中出現(xiàn)的多種疑難足跡情況——諸如被背景圖案淹沒的足跡,高反射表面的足跡,以及很多看得見卻拍不到(拍不好)的足跡等,創(chuàng)新設計了“傾斜成像加激光矯正(IILC)”的獨特掃描技術,使得大部分常見疑難足跡都能得以清晰呈現(xiàn)。主要特點:疑難足跡的提?。焊邔Ρ榷取碗s花紋圖案表面的足跡;高反射材質表面的足跡;只能傾斜觀察可見的足跡。高信噪比:大幅度抑制客體背景信息,提高足跡圖像的信噪比。多采集模式:根據灰塵足跡、水漬足跡、血足

